2GL双光子灰度光刻技术现已实现3D 打印
传统 3D 打印面临一个挑战,对于复杂设计或曲面形状的高分辨率 3D 打印,必须将打印件切片并划分为大量水平和垂直层。这会显著增加光滑、曲面或细丝结构的打印时间。双光子灰度光刻 (2GL®于 2019 年推出,受 Nanoscribe 专有知识产权保护,可实现体素调整,从而减少要打印的层数,这是通过扫描过程中的快速激光调制实现的。但是,该技术以前仅适用于 2.5D 结构。
△Quantum X align
2GL 于 2023 年推出的 3D 打印将 Nanoscribe 的灰度技术带入了三维。高分辨率 3D 打印过程基于在最高速度扫描时实时动态调制激光功率。这可以对聚合体素进行高精度尺寸调整,以完美匹配任何 3D 形状的轮廓。专有的 3D 纳米制造技术可产生完美、光滑的表面,无需任何切片步骤或与体素相关的形状扭曲,准确呈现任何高分辨率 3D 设计的实际形状。
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Nanoscribe是高精度增材制造领域的先驱和市场领导者,不断突破 3D 打印的极限,挑战微加工领域的最先进技术。Nanoscribe的技术推动尖端科学的发展,并推动微光学、微机械、生物医学工程和光子技术等众多领域的工业创新。公司与来自科学、研究和工业领域的合作伙伴积极参与有前景的研发项目。